- **3奈米製程(N3)概述**:
- 台積公司於2022年量產的先進製程技術。
- 業界最先進的半導體邏輯製程技術之一。
- 具有最佳的效能、功耗及面積(PPA)。
- **N3的衍生製程**:
- N3E:支援更佳功耗、效能與密度,減少EUV光罩,降低成本。
- N3P:提高性能並最大程度上保持功率與面積的權衡。
- N3S:用於平衡性能與功耗,適用於中等需求場景。
- N3X:針對高效能運算應用而設計,提供更靈活的設計靈活性。
- **N3製程的特點**:
- 支援FinFlex™技術,允許客戶自行配置鰭結構,以滿足不同的性能、功率和面積需求。
- 可選擇雙柵極單鰭FinFET、三柵極雙鰭電晶體或雙柵極雙鰭FinFET等電晶體結構。
- 提供設計靈活性,客戶可以根據產品需求進行最佳化配置。
- **N3與未來技術發展**:
- 台積電將在準備好生產2奈米製程時轉向奈米片晶體管技術。
- 奈米片是一種環繞柵極(GAA)晶體管,具有提高節能和計算效率的獨特優勢。
- N3製程將作為受歡迎的長節點,與未來2奈米製程同時銷售,以滿足客戶不同需求。
- **結論**:
- 3奈米製程是台積電的先進製程技術,擁有多種衍生製程選項,以滿足不同產品的性能、功耗和面積需求。
- 未來,台積電將持續推進技術發展,包括轉向奈米片晶體管技術,以提供更高效能和更節能的解決方案。
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